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Heißer Verkauf UV-Hochtransmissions-Korrosionsschutzplatte aus klarem Quarzglas mit Präzisionsbearbeitung für Laborgeräte
Heißer Verkauf UV-Quarzglasplatte mit hoher Durchlässigkeit (> 92 %) und Korrosionsschutz mit einer Reinheit von SIO2> 99,99 %. Widersteht einer Arbeitstemperatur von 1150 °C, Säuretoleranz 30x, Keramik, anpassbare Größe/Form. Ideal für Halbleiter-, optische und photokatalytische Laborgeräte.
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Industrielle Qualität Hohe Härte Säure-Alkali-beständige optische Quarz Glasplatte gegießte stressfreie Quarzfenster
Industrielle Quarzplatte mit 99,99 % SiO2-Reinheit, widersteht einer Arbeitstemperatur von 1150 °C, >92 % Lichtdurchlässigkeit, Morse-Härte 6,5 und außergewöhnlicher Säurebeständigkeit (30 x Keramik, 150 x Edelstahl). Kundenspezifische Größen und Verarbeitung für Halbleiter- und optische Anwendungen verfügbar.
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Wärmeschlagfest, doppelseitig poliertes Quarzglas mit hoher Lichtübertragung für Halbleiterwaferträger
OEM/ODM doppelseitig polierte Quarzglasplatten mit >92 % Lichtdurchlässigkeit, 1150 °C Hitzeschockbeständigkeit und hoher Säuretoleranz. Kundenspezifische Größen (0,5–100 mm) für Halbleiter-Waferträger und optische Anwendungen. SIO2>99,99 % Reinheit.
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99,99% hochreine geschmolzenes Silizium durchsichtige hochtemperaturbeständige Quarzglasplatte
Kundenspezifische 99,99 % hochreine Quarzglasplatten mit 1150 °C Arbeitstemperatur, >92 % Lichtdurchlässigkeit und hervorragender Säurebeständigkeit. Ideal für Ofenbeobachtungsfenster in Halbleiter- und optischen Anwendungen.
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Hochtemperaturbeständig 99,99% SiO2-Gehalt geschmolzenes Siliziumfenster Quarz Glasblech Quzrtz Platten
Hochtemperaturbeständige Quarzglasscheibe mit 99,99 % SiO₂-Gehalt und einer Arbeitstemperatur von 1100 °C, einem Schmelzpunkt von 1732 °C und einer Härte von 6,6. Kundenspezifische Fertigung mit Stanz-/Schneidediensten, kostenlose Muster für Halbleiteranwendungen verfügbar.
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Präzisions-Quarz-Rillenplatten, speziell geformte 99,99 % SiO₂-Quarzglasplatten für Halbleiteranwendungen
Präzise gerillte Quarzplatten und speziell geformte Quarzglasplatten für Halbleiteranwendungen. Kundenspezifische Größen mit 99,99 % SiO₂-Reinheit, Arbeitstemperatur bis 1100℃, Härte Morse 6,5. Erhältlich in verschiedenen Toleranzen, Poliergraden und Transluzenzoptionen.
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Hochtemperaturbeständig 1100° Hohe Durchlässigkeit 99,99% Reinheit Quarzglasplatte und geschmolzenes Siliciumwafer
Hochtemperaturbeständige 1100 °C-Quarzglasplatten mit 99,99 % Reinheit und hoher Durchlässigkeit. Anpassbare Abmessungen, korrosionsbeständig, ideal für Halbleiter- und optische Anwendungen. Starke elektrische Isolierung und langlebige Struktur.
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Hohe Reinheit 99,99% SiO2 Hohe Durchlässigkeit Machinengestaltete Quarzglasplatte für Optik
Hochreine 99,99 % SiO2-Quarzplatten mit 1100 °C Arbeitstemperatur, kundenspezifische Bearbeitung, Bohren und Stanzen. Erhältlich in verschiedenen Formen mit kostenlosen Mustern und Optionen mit geringer Mindestbestellmenge.
