Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
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Material | SIO2 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
Produkt-Name | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | SIO2 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
Produkt-Name | Quarz-Reagenzglas |
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Material | Fixierter Quarz |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Härte | Morse 6,5 |
Zusammenpressendes strenth | 1100MPA |
Material | SIO2>99.99% |
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Dichte | 2.2g/cm3 |
Härte | Morse 6,5 |
Arbeits-Temparature | 1150℃ |
Schmelzpunkt | 1750-1850℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Dichte | 2.2g/cm3 |
Härte | Morse 6,5 |
Arbeits-Temparature | 1150℃ |
Schmelzpunkt | 1750-1850℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Dichte | 2.2g/cm3 |
Härte | Morse 6,5 |
Größe | Besonders angefertigt |
Schmelzpunkt | 1750-1850℃ |
Produktname | Quarz-Rohr-Flansch |
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Material | SiO2 |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Dichte | 2.2g/cm3 |
Härte | Morse 6,5 |
Arbeits-Temparature | 1150℃ |
Schmelzpunkt | 1750-1850℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Dichte | 2.2g/cm3 |
Härte | Morse 6,5 |
Arbeits-Temparature | 1150℃ |
Schmelzpunkt | 1750-1850℃ |