| Material | fixiertes Silikon |
|---|---|
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Härte | Morse 6,5 |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Produkt-Name | Quarzglas |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Art | Klare Quarz-Platte |
|---|---|
| Anwendung | Halbleiter, optisch |
| Stärke | 0.5-100mm |
| Form | Quadrat |
| Verarbeitung des Services | Biegen, Schweißen, Stanzen, Polieren |
| Name | Quarzglasreaktor |
|---|---|
| Material | fixiertes Silikon |
| Arbeitstemperatur | 1100°C |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Härte | Morse 6,5 |
| Material | fixiertes Silikon |
|---|---|
| Betriebstemperatur | 1250℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Härte | Morse 6,5 |
| Anwendung | Laborversuch |
| Name | Quarz-Glas-Diskette |
|---|---|
| Helle Beförderung | >92% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Härte | Morse 6,5 |
| Produktname | Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Name | Glasisolierung des Quarzes |
|---|---|
| Material | SIO2>99.999% |
| Helle Beförderung | >92% |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |