| Material | 99,99% |
|---|---|
| Helle Beförderung | 92% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Härte | Morse 6,5 |
| keyword | Science Lab Glassware |
|---|---|
| Name | process glass lab customized quartz instrument |
| Material | fixiertes Silikon |
| Working temperature | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
| Material | fixiertes Silikon |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
| Material | fixiertes Silikon |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Name | Quarz-Glasrohr |
|---|---|
| Anwendung | Quellen, Halbleiter |
| Material | Sio2> 99,99% |
| Merkmal | Gute elektrische Isolierung |
| Lichtdurchlässigkeit | > 92% |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Dieletric-Stärke | 250~400Kv/cm |
| Type | Durchsichtige Quarzplatte |
|---|---|
| Anwendung | Halbleiter, optisch |
| Stärke | 0.5-100 mm |
| Form | Quadrat |
| Verarbeitungsdienst | Schlagen, Schneiden |
| Produkt-Name | Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Helle Beförderung | 92% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Helle Beförderung | 92% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Arbeits-temparature | 1100℃ |
| Produktname | Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | SIO2 > 99,99 % |
| Dichte | 2,2 g/cm3 |
| Härte | Morsezeichen 6.5 |
| Arbeitstemperatur | 1150℃ |