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Customized Polishing Laser Drilling Quartz Glass Sheet High Purity Quartz Plate for Semiconductor
Maßgeschneiderte Polier-Laserbohr-Quarzglasplatte mit 99,99 % SiO₂-Reinheit für Halbleiteranwendungen. Verfügt über eine hohe Temperaturbeständigkeit (1100 °C Arbeitstemperatur), eine Dichte von 2,2 g/cm³ und unterstützt individuelles Schneiden/Stanzen mit kostenlosen Mustern.
High Purity 99.99% Fused Silica Plate with 1732C Melting Point and 1100C Working Temperature for Optical Quartz Window
Hochreine Quarzglasplatten mit 99,99 % SiO2, >92 % Lichtdurchlässigkeit, 1732 °C Schmelzpunkt und 1150 °C Arbeitstemperatur. Benutzerdefinierte Größen (1–800 mm Durchmesser, 0,2–100 mm Dicke) mit Stanz-/Schneideoptionen. JGS-Standards, korrosionsbeständig, hochtemperaturbeständig für Halbleiter-, Laser- und optische Anwendungen.
Custom Length Diameter 1200 Degree Thermal Shock Resistance JGS2 Quartz Tube Fused Silica Tube with SiO2>99.99% Purity
Kundenspezifische Quarzrohre mit 99,99 % SiO2-Reinheit halten einem Temperaturschock von 1200 °C stand. Verfügt über einen Erweichungspunkt von 1730 °C, eine ausgezeichnete Säurebeständigkeit und CE/RoHS/SGS-Zertifizierungen. Erhältlich in kundenspezifischen Größen für chemische Anwendungen.
hochtemperaturbeständige JGS1 JGS2 JGS3 klare geschmolzene Siliziumquarzglaswafer für die Halbleiterherstellung
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
Hohe Reinheit 99,99% Quarzglasröhre Hitzebeständig geschmolzenes Siliziumrohr Runde Quarzröhre für Laboröfen Hersteller
Maßgeschneiderte hochtemperaturbeständige 99,99 % SiO₂-Quarzglasröhre für Öfen, Halbleitergeräte und Laborreaktoren. Verfügt über eine Arbeitstemperatur von 1100 °C, Korrosionsbeständigkeit und individuelle Verarbeitung. ISO9001-, CE- und RoHS-zertifiziert, kostenlose Muster verfügbar.
Hochtemperaturfester Quarzrohr mit großem Durchmesser, poliert, transluzent für Rohröfen
Hochtemperatur-Quarzglasrohr mit 99,99 % SiO₂-Reinheit, Arbeitstemperatur bis 1100℃, Außendurchmesserbereich 10–10000 mm. Ideal für Halbleiter-, Labor- und Industrieofenanwendungen. Individuelles Zuschneiden/Stanzen mit kostenlosen Mustern möglich.
UV-transparente hochreine Quarzglasplatte, Schmelzsiliziumplatte, kundenspezifische Größe für Laserausrüstung
UV-transparente Quarzglasplatten mit >99,99 % SiO2-Reinheit, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 1150 °C Arbeitstemperatur. Erhältlich in 0,5–100 mm Dicke mit JGS1/JGS2/JGS3-Standards. Kundenspezifische Größen und Formen, die nach Ihren Vorgaben für Lasergeräte und industrielle Anwendungen hergestellt werden.
Fabrikdirekt Hochreine Hitzebeständige 1200℃ Transparente Quarzrohr für Halbleiter
Direkt ab Werk hergestelltes hochreines Quarzrohr mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, hält Temperaturen von 1200 °C stand. Kundenspezifische Größen mit einem Außendurchmesser von 10–10.000 mm, ideal für Halbleiter-, Hochtemperaturöfen und Laboranwendungen. Kostenlose Muster verfügbar.
