Maßgeschneiderte verunreinigungsfreie Quarzpolierfolie in runder Form im Großhandel mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, Dichte 2,2 g/cm³, Härte 6,6, Arbeitstemperatur 1100 °C und Schmelzpunkt 1732 °C. Unterstützt die Stanz-/Schneideverarbeitung und kostenlose Muster für Halbleiteranwendungen.
High Temperature Resistant Fused Silica Quartz Coated Plate High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan Quartz. Technical ...
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
Hochreines Quarzglasrohr mit Quarzschiffchen für die Ofenheizung im Labor. Verfügt über SIO2>99,99 %, Arbeitstemperatur 1100 °C, Lichtdurchlässigkeit >92 %, hervorragende elektrische Isolierung und Korrosionsbeständigkeit. Ideal für Halbleiter-, optische und industrielle Anwendungen.
Hochtemperaturbeständige Quarzplatten mit 99,99 % Reinheit, 1100 °C Betriebstemperatur, 92 % Lichtdurchlässigkeit und ±0,02 mm Toleranz. Kundenspezifische Fertigung für Halbleiter-, Labor- und Industrieanwendungen möglich.
Hochreines Quarzglasrohr mit Quarzschiffchen für die Ofenheizung im Labor. Verfügt über SIO2>99,99 %, Arbeitstemperatur 1100 °C, Lichtdurchlässigkeit >92 %, hervorragende elektrische Isolierung und Korrosionsbeständigkeit. Ideal für Halbleiter-, optische und industrielle Anwendungen.
Hochtemperaturbeständige, transparente, polierte Quarzglasplatte mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, Arbeitstemperatur bis 1100 °C und Schmelzpunkt 1732 °C. Kundenspezifische Fertigung mit Stanz-/Schneidediensten und kostenlosen Mustern für Halbleiter- und optische Anwendungen.
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