Oops! Page Not Found.
Sorry, the page you're looking for couldn't be found. It might have been removed, had its name changed, or is temporarily unavailable.
Back to Home
Latest Products
Maßgeschneiderte hitzebeständige geschmolzene klare Quarzrohr-Großdurchmesser-Quarzglasrohr
Quarzglasrohr in Sondergröße mit 99,99 % SiO₂-Reinheit, Arbeitstemperatur bis zu 1100 °C, Außendurchmesserbereich 10–10.000 mm. Ideal für Halbleiter-, Hochtemperaturöfen und Laboranwendungen. Kostenlose Muster mit Stanz-/Schneidbearbeitungsdiensten verfügbar.
Custom High Purity 99,99% SiO2 Quarzglasplatte mit hoher UV-Übertragbarkeit > 92% und hoher Temperaturbeständigkeit 1150°C für optische Fenster
Kundenspezifische Quarzglasscheiben mit 99,99 % SiO2-Reinheit, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 1150 °C Arbeitstemperatur. Erhältlich in einer Dicke von 0,5–100 mm mit vollständiger Anpassung einschließlich Schneiden, Biegen und Schweißen für optische Anwendungen.
Professionelle kundenspezifische korrosionsbeständige transparente Quarzflasche für das Labor
Professionelle, maßgeschneiderte Quarzflasche mit 99,99 % SiO₂-Reinheit, hält einer Arbeitstemperatur von 1100 °C und einem Schmelzpunkt von 1732 °C stand. Ideal für Laborforschung, Halbleiterprozesse und universitäre Lehranwendungen.
UV-transparente, hochtemperaturbeständige Quarzglasplatte für Halbleitergeräte
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Hochtransparente hochreine Quarzglasplatte aus geschmolzenem Quarz mit kundenspezifischer Dicke für Laboranwendungen
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Hochwertige hitzebeständige transparente rechteckige Quarzglasplatte mit Löchern für Halbleiter
Hochtemperaturbeständige transparente Quarzglasplatte mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, 1732℃ Schmelzpunkt, 1100℃ Arbeitstemperatur. Kundenspezifische Stanz-/Schneidbearbeitung, kostenlose Muster verfügbar. Ideal für Halbleiteranwendungen.
Hochtransparente Polierung Fusionierte Siliziumquarz Glasflasche für Chemie Labor Experiment
Hochtransparente Polierflasche aus Quarzglas für Chemielaborexperimente. Verfügt über einen SiO₂-Gehalt von 99,99 %, einen Schmelzpunkt von 1732 °C, eine Arbeitstemperatur von 1100 °C und eine Härte von 6,6. Ideal für Laborforschung, Halbleiterprozesse und universitäre Lehranwendungen.
Hochtemperaturbeständige 1100° Korrosionsbeständige 99,99% SiO₂-Quarzglasrohr für Ofenanwendungen
Hochtemperaturbeständige 1100°C-Quarzglasröhren mit 99,99 % SiO₂-Reinheit. Korrosionsbeständig, Dichte 2,2 g/cm³, ideal für Öfen, Halbleitergeräte und Laboranwendungen. Kundenspezifische Optionen mit ISO9001-, CE- und RoHS-Zertifizierungen verfügbar.
