Kundenspezifisches Quarzglas-Spiralrohr mit SIO2>99,99 % Reinheit, Arbeitstemperatur bis zu 1100 °C, >92 % Lichtdurchlässigkeit und ozonfrei für den Laborgebrauch. Verfügt über eine hervorragende Thermoschockstabilität, Säure-/Laugenbeständigkeit und keine Luftblasen.
Hochreines 99,99 % transparentes Quarzglasrohr für Halbleiteröfen. Verfügt über einen Erweichungspunkt von 1730 °C, eine ausgezeichnete Säurebeständigkeit und anpassbare Größen. CE-, RoHS- und SGS-zertifiziert.
Professionelle, maßgeschneiderte Quarzflasche mit 99,99 % SiO₂-Reinheit, hält einer Arbeitstemperatur von 1100 °C und einem Schmelzpunkt von 1732 °C stand. Ideal für Laborforschung, Halbleiterprozesse und universitäre Lehranwendungen.
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Hochpräzises Quarz-Schraubgewinderohr mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, Arbeitstemperatur bis 1100℃, Schmelzpunkt 1732℃. Hochtemperaturbeständig, korrosionsbeständig, ideal für Laborforschung, Halbleiter und universitäre Lehranwendungen.
Hochreines Quarzglasrohr mit Quarzschiffchen für die Ofenheizung im Labor. Verfügt über SIO2>99,99 %, Arbeitstemperatur 1100 °C, Lichtdurchlässigkeit >92 %, hervorragende elektrische Isolierung und Korrosionsbeständigkeit. Ideal für Halbleiter-, optische und industrielle Anwendungen.
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