Hochreines Ofenlabor für Waferträger aus Quarzglas

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February 27, 2026
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Lassen Sie uns eintauchen – sehen Sie sich diese Lösung in Aktion an und bemerken Sie die entscheidenden Momente. In diesem Video gehen wir durch den Herstellungsprozess hochreiner transparenter UV-Quarzglasplatten und zeigen deren Herstellung vom Rohmaterial bis zur endgültigen Präzisionsbearbeitung. Sie erfahren mehr über ihre entscheidenden Eigenschaften wie 99,99 % SiO2-Reinheit, 2,2 g/cm³ Dichte und Hochtemperaturbeständigkeit bis 1450 °C und sehen reale Anwendungen in Laborinstrumenten, optischen Geräten und industriellen Hochtemperaturumgebungen.