Produktbezeichnung | Quarzglasstab |
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Material | SIO2>99.99% |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Helles Transimittance | 92% |
Härte | Morse 6,5 |
Produktname | Stab aus Quarzglas |
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Material | SIO2 > 99,99 % |
Dichte | 2,2 g/cm3 |
Lichtdurchlässigkeit | 92% |
Härte | Morsezeichen 6.5 |
Name | Hochtemperatur-Quarzglasplatte |
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Typ | Klare Quarzplatte |
Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0,5-100mm |
Form | Quadrat |
Produktname | Stab aus Quarzglas |
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Material | SIO2 > 99,99 % |
Dichte | 2,2 g/cm3 |
Lichtdurchlässigkeit | 92% |
Härte | Morsezeichen 6.5 |
Material | SIO2 > 99,99 % |
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Dichte | 2,2 g/cm3 |
Lichtdurchlässigkeit | 92% |
Härte | Morsezeichen 6.5 |
Arbeitstemperatur | 1100℃ |
Produktname | Stab aus Quarzglas |
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Material | SIO2 > 99,99 % |
Dichte | 2,2 g/cm3 |
Lichtdurchlässigkeit | 92% |
Härte | Morsezeichen 6.5 |
Name | Bohrungsquarz-Glasstab |
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Anwendung | Quellen, Halbleiter |
Material | Sio2>99.99% |
Feature | Gute elektrische Isolierung |
Helle Beförderung | >92% |
Produktname | Stab aus Quarzglas |
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Material | Sio2>99.99% |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Helles Transimittance | 92% |
Härte | Morse 6,5 |
Name | Hohe transparente Laser-Bohrung und lochender Quarz-Glasstab |
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Anwendung | Quellen, Halbleiter |
Material | Sio2>99.99% |
Feature | Gute elektrische Isolierung |
Helle Beförderung | >92% |
Name | Quarz-Glas-Rod Semiconductor Quartz With-Durchlöchern |
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Anwendung | Quellen, Halbleiter |
Material | Sio2>99.99% |
Feature | Gute elektrische Isolierung |
Helle Beförderung | >92% |