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Qualität Fused Silica Glass Plate High Purity Quartz Material Heat High Temperature Quartz Wafer Fabrik
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Fused Silica Glass Plate High Purity Quartz Material Heat High Temperature Quartz Wafer

Markenbezeichnung: SF
Modellnummer: JGS2
Herkunftsort: China
Zertifizierung: ISO9001/SGS/ROHS/CE
Mindestbestellmenge: 1 Stück
Preis: Verhandelbar
Lieferfähigkeit: 10.000 Stück pro Monat

Produktdetails


Erweichungspunkt: 1683 Grad Celsius, 1780, 1780°C Härte: Morse 6.5
Material: SiO2&gt; 99,99% Arbeitstemperatur: 1100℃, 1200°C, 1200 Grad
Oberflächenqualität: Poliert,40/20 60/40 80/50,40/20 60/40,40-20 Dicke: 0,5–100 mm, 1–100 mm, individuell anpassbar, von 0,3 mm nach Ihren Anforderungen, 1–20 mm
Hervorheben

high purity fused silica glass plate

,

heat resistant quartz wafer

,

high temperature fused quartz plate

Produktbeschreibung

Fused Silica Glass Plate High Purity Quartz Material Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Heat Resistant Quartz Glass Thermostable Optical Material Quartz Glass Plate Custom Fused Quartz Plate with High Transmittance & Density 2.2g/cm³ Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance and 2.2g/cm³ density, available in customized shapes and specifications. Custom Manufacturing Capabilities We produce shaped

Produkt-Highlights

Werksseitig werden hochreine (SiO₂>99,99 %) hitzebeständige Quarzglasplatten mit einem Erweichungspunkt von 1683 °C, einer Arbeitstemperatur von 1100–1200 °C, einer Morsehärte von 6,5 und einer Lichtdurchlässigkeit von über 92 % geliefert. Kundenspezifische Formen, Dicke 0,3–100 mm, polierte Oberflächen und niedrige Mindestbestellmenge verfügbar.

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