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Qualität High Transmittance Fused Silica High Pressure Resistant Polishing Quartz Glass Tube for Semiconductor Fabrik
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High Transmittance Fused Silica High Pressure Resistant Polishing Quartz Glass Tube for Semiconductor

Markenbezeichnung: Shengfan
Modellnummer: JGS2
Herkunftsort: Jiangsu, China
Zertifizierung: ISO9001 ROHS CE MSDS
Mindestbestellmenge: 1
Preis: $2.00/pieces 1-49 pieces
Lieferfähigkeit: 10000 Stück/Stücke pro Monat

Produktdetails


Material: SiO2 PProduct-Name: Qruartz-Glasröhre
Bearbeitungsservice: Stanzschneiden Farbe: Klar transparent
SiO2-Gehalt: 99,99 % Schmelzpunkt: 1732℃
Dichte: 2,2 g/cm3 Anwendung: Halbleiter, Hochtemperaturöfen, Laborquarzreaktoren
OD: 10 bis 10000 mm Probe: Unterstützen Sie die kostenlose Musterproduktion
Arbeitstemperatur: 1100℃
Hervorheben

high transmittance fused silica quartz tube

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Produktbeschreibung

High Transmittance Fused Silica High Pressure Resistant Polishing Quartz Glass Tube for Semiconductor Factory Customization Two-ended Port Fire Polished Quartz Glass Tube for Experimental Furnace Tube Product Overview Product Specifications Brand Shengfan Product Name Quartz Glass Tube SiO₂ Content 99.99% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Annealing Point 1180℃ Softening Point 1630℃ Product Gallery Production Process

Produkt-Highlights

Hochdurchlässiges Quarzglasrohr mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, Arbeitstemperatur bis zu 1100 °C, Außendurchmesserbereich 10–10000 mm. Ideal für Halbleitergeräte, Hochtemperaturöfen und Laborreaktoren. Individuelles Zuschneiden/Stanzen mit kostenlosen Mustern möglich.

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