Hochpräzise Quarzwafers für Halbleiter, Optik und Labore - Mia

Als Kernprodukte von hochreinem Quarzglas sind Quarzwafer mit ihrem extrem niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, ihrer ausgezeichneten UV-Lichtdurchlässigkeit und ihrer starken chemischen Korrosionsbeständigkeit unverzichtbare grundlegende Präzisionsmaterialien in den Bereichen Halbleiterlithographie, optische Detektion, Labor-Spektralanalyse und Lasergeräte. In jüngster Zeit hat die heimische Quarzverarbeitungsindustrie Schleif-, Anfas- und Beschichtungsprozesse kontinuierlich weiterentwickelt, und hochpräzise Quarzwaferprodukte haben ihren Einzug in den globalen Exportmarkt beschleunigt. Die Inlandsfertigung und die weltweite Expansion von Quarzmaterialien beschleunigen sich gleichzeitig.

Quarzwafer werden aus hochreinem Quarzglas (SiO₂) hergestellt und durch mehrere präzise Verfahren wie Schneiden, Schleifen, Polieren und Reinigen verarbeitet. Die Produkte können nach Kundenwunsch in Bezug auf Dicke, Toleranz und Oberflächenplanheit angepasst werden und werden in Kategorien wie JGS1-UV-Quarzwafer und JGS2-IR-Quarzwafer usw. eingeteilt. Sie unterstützen Sekundärbearbeitungen wie AR-Antireflexbeschichtung und Anfasen und werden häufig in Szenarien wie Beobachtungsfenstern für Halbleitergeräte, Farbbasen für Spektrometer, Laserschutzlinsen und Abdeckungen für photokatalytische Reaktionskammern eingesetzt. Im Gegensatz zu gewöhnlichem Glas können hochreine Quarzwafer Temperaturen von bis zu 1100°C standhalten, sind in stark sauren und stark alkalischen Umgebungen nicht leicht zu erodieren, weisen eine herausragende Lichtdurchlässigkeit im ultravioletten Band auf und sind die bevorzugten Substrate für hochrangige wissenschaftliche Forschung und industrielle Anwendungen.

Die globale Nachfrage nach optischen Geräten im Zusammenhang mit Halbleitern und KI-Rechenleistung steigt weiter an und treibt ein stetiges Wachstum der Nachfrage nach hochpräzisen Quarzwafern voran.