Klassifizierung und Verwendung von Quarzglasplatten

Klassifizierung und Verwendung von QuarzglasPlatte

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Quarzglasplatten, bekannt für ihre hohe thermische Stabilität und optische Klarheit, werden basierend auf Materialreinheit und Verarbeitungstechniken klassifiziert, was vielfältige industrielle Anwendungen ermöglicht.

Im Folgenden sind ihre Hauptkategorien und Verwendungen aufgeführt:

‌1. Materialklassifizierung

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‌Quarzglasscheiben‌: Bestehend aus ≥99,99 % Siliziumdioxid, bieten diese Platten außergewöhnliche UV-Transparenz und Beständigkeit gegen Temperaturschock, was sie ideal für die Halbleiterlithografie und Lasersysteme macht.

‌Borosilikat-Quarzplatten‌: Mit zugesetztem Boroxid bieten diese eine verbesserte thermische Stabilität zu geringeren Kosten, geeignet für Laborausrüstung und industrielle Heizanwendungen.

‌Oxyhalogenid-Tellurit-Platten‌: Spezialisiert für photonische Geräte, ermöglichen diese fortschrittliche optische Filterung und lumineszierende Technologien.

• Industrielle Anwendungen

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‌Halbleiterherstellung‌: Hochreine Quarzplatten dienen als Substrate für die Waferbearbeitung und Diffusionskammern und gewährleisten eine kontaminationsfreie Umgebung. Verwendung als Substrate für die Waferbearbeitung und Diffusionskammern, die extrem niedrige Metallverunreinigungen erfordern (<0,5 ppm) und thermische Stabilität bis zu 1200 °C.

‌Erneuerbare Energien‌: In Solarthermiereceivern verwendet, halten diese Platten extremen Temperaturen stand und behalten gleichzeitig ihre optische Effizienz bei.

‌Kerntechnik‌: Getestet auf Stoßfestigkeit bis zu 34,5 MPa, werden Quarzplatten in Reaktorbeobachtungssystemen eingesetzt, um das Brennstoffverhalten unter Hochdruckbedingungen zu überwachen.

‌Optoelektronik‌: UV-transparente Platten ermöglichen eine präzise Lichtdurchlässigkeit in mikrooptischen Geräten, wobei Material der Güteklasse JGS1 eine Transmission von >80 % im Bereich von 170-2500 nm erreicht.

Der Markt für Quarzglasplatten verzeichnet ein robustes Wachstum, das durch Fortschritte in der Halbleiterherstellung und der Photonik-Technologie befeuert wird. Hochreine Quarzplatten (≥99,99 % SiO₂) sind entscheidend für die Extreme-Ultraviolett-(EUV)-Lithografie und Lasersysteme.