"technical glass products"
Bearbeitung von Laserbohrungen in transparenter Quarzglasplatte mit Loch
Processing Laser Drilling Transparent Quartz Glass Plate With Hole Custom Clear High Temperature Resistance Glass Plates - JGS1 Fused Silica Quartz Glass Disc with exceptional thermal and optical properties. Product Overview Custom fused quartz glass plates featuring 92% light transmittance and 2.2g...
Anfertigung auf eigene Faust, hochtemperaturbeständig, geschmolzenes Silizium, Quadratquarzglas, Runde Quarzscheibe
Custom High Temperature Resistant Fused Silica Quartz Glass Sheets & Discs High Temperature Resistant Sapphire Quartz Tablets - Custom clear high temperature resistance glass plates featuring JGS1 fused silica quartz glass disc with exceptional thermal and optical properties. Available in all sizes ...
Hochtemperaturbeständigkeit 1150°C Quarzglasplatte mit 92% Lichtdurchlässigkeit und 2,2 g/cm3 Dichte
Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Heat Resistant Quartz Glass Thermostable Optical Material Quartz Glass Plate Custom Fused Quartz Plate with High Transmittance & Density 2.2g/cm³ Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance ...
Hochreine Quarzglasfackel mit SIO2>99,99% und guter elektrischer Isolierung für die Laborheizung bei 1100°C
Der Brenner aus hochreinem Quarzglas (SiO₂ >99,99 %) hält Temperaturen von 1100 °C stand, bietet eine Lichtdurchlässigkeit von >92 %, hervorragende elektrische Isolierung und Säure-/Laugenbeständigkeit. Kundenspezifische Größen (1–1000 mm Außendurchmesser) für Halbleiter- und Laboranwendungen erhältlich.
Anpassungsflansche Quarzglasröhre mit KF-Port für Laborheizung MPCVD-Ausrüstung - 1100°C Arbeitstemperatur & SIO2>99,99% Reinheit
Kundenspezifisches Quarzglasrohr mit Flansch und KF-Anschluss für die Laborheizung von MPCVD-Geräten. Verfügt über hohe Reinheit (SiO₂>99,99 %), ausgezeichnete thermische Stabilität (1100 °C Arbeitstemperatur), >92 % Lichtdurchlässigkeit und Säure-/Laugenbeständigkeit. Akzeptiert kundenspezifische Bearbeitung einschließlich Biegen, Schneiden und Schweißen.
Gute elektrische Isolierung, hohe Hitzebeständigkeit, Quarzglasrohr mit hoher Lichtdurchlässigkeit für Halbleiteranwendungen
Good Electrical Quartz Insulation Glass Tube For Sources / Semiconductor High-performance quartz glass tubes designed for lighting sources, semiconductor manufacturing, and industrial applications requiring superior electrical insulation and thermal stability. Material Properties High Durability ...
Kundenspezifischer 50ml bis 5000ml Quarzglasreaktor Vakuum-Quarz-Photoreaktor
Shengfan Quartz Glass Reactor Characteristic *Name Quartz Glass Reactor *SIO2 ≥99.99% *Tolerance ±0.02—±0.05mm *Size Customized *Melting point 1732℃ *Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ Size&design: Accept customize according to different diameter , thickness, length or sending your ...
Hochtemperaturbeständige Quarzglasretorte Quarzglasreaktor für das Labor
Shengfan Quartz Glass Reactor Characteristic *Name Quartz Glass Reactor *SIO2 ≥99.99% *Tolerance ±0.02—±0.05mm *Size Customized *Melting point 1732℃ *Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ Size&design: Accept customize according to different diameter , thickness, length or sending your ...
Anpassung Verarbeitung UV-Quarzglasrohrreaktor
Shengfan Quartz Glass Reactor Characteristic *Name Quartz Glass Reactor *SIO2 ≥99.99% *Tolerance ±0.02—±0.05mm *Size Customized *Melting point 1732℃ *Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ Size&design: Accept customize according to different diameter , thickness, length or sending your ...
Hochtemperaturbeständigkeit 1150°C Quarzglasplatte mit 92% Lichtdurchlässigkeit und 2,2 g/cm3 Dichte
Heat Resistance Thicker Clear Fused Silica Quartz Glass Sheet With High Transmittance Clear High Temperature Resistance JGS1 GE214 Fused Silica Quartz Disc Product Overview Customized fused quartz glass plates with 92% light transmittance and 2.2g/cm³ density, available in customized shapes and ...
Auf Wunsch 99,99% hochreine, säureresistente, fotokatalytische Quarzglasreaktor für chemische Experimente im Labor
Werksspezifische 99,99 % hochreine Quarzglasreaktoren mit 1100 °C Arbeitstemperatur, 30-mal besserer Säurebeständigkeit als Keramik und vollständiger kundenspezifischer Anpassung möglich.
Wärmebeständiger Quarzglasreaktor mit doppelter Wand mit individueller Größe und hoher Reinheit SiO2 für die Halbleiterindustrie
Im Angebot sind doppelwandige, ummantelte Reaktoren aus klarem Quarzglas aus Quarzglas (SiO2≥99,99 %). Widersteht einer Arbeitstemperatur von 1100 °C, einem Erweichungspunkt von 1730 °C, einer Morsehärte von 6,5 und der 30-fachen Säuretoleranz von Keramik. Kundenspezifische Größen und Designs mit Herstellerzertifizierungen verfügbar.
