Produktname | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | SiO2 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1200℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
Produkt-Name | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | Sio2 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
Produkt-Name | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | Sio2 |
Härte | Morsezeichen 6.5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenqualität | 20/40 oder 40/60 |
Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
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Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
Material | fixiertes Silikon |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
Produkt-Name | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | SiO2 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
Material | fixiertes Silikon |
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Betriebstemperatur | 1250℃ |
Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
Härte | Morse 6,5 |
Anwendung | Laborversuch |
Produkt-Name | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | SIO2 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
Typ | Klare Quarzplatte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0,5-100mm |
Form | Quadrat |
Bearbeitungsdienst | Biegen, Schweißen, Stanzen, Schneiden |
Typ | Durchsichtige Quarzplatte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100 mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitungsdienst | Bogen, Schweißen, Streichen, Polieren |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |