Typ | Durchsichtige Quarzplatte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100 mm |
Form | Quadrat/Runde |
Verarbeitungsdienst | Bogen, Schweißen, Streichen, Polieren |
Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
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Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
Material | fixiertes Silikon |
Arbeitstemperatur | 1100℃ |
Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
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Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
Material | fixiertes Silikon |
Arbeitstemperatur | 1100℃ |
Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
Material | SIO2>99.99% |
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Od | 3-300mm |
Helle Beförderung | >92% |
Arbeits-Temparature | 1100℃ |
Härte | Mose 6,5 |
Material | SIO2>99.99% |
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Od | 3-300mm |
Helle Beförderung | >92% |
Arbeits-Temparature | 1100℃ |
Härte | Mose 6,5 |
Material | SIO2>99.999% |
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Dichte | 2,2 (g/cm3) |
Helle Beförderung | >92% |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Od | 3-300mm |
Helle Beförderung | >92% |
Arbeits-Temparature | 1100℃ |
Härte | Mose 6,5 |
Material | SIO2>99.99% |
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Od | 3-300mm |
Helle Beförderung | >92% |
Arbeits-Temparature | 1100℃ |
Härte | Morse 6,5 |
Material | SIO2>99.99% |
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Od | 3-300mm |
Helle Beförderung | >92% |
Arbeits-Temparature | 1100℃ |
Härte | Mose 6,5 |
Produktname | Quarzglasstab |
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Material | SIO2>99.99% |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Helles transimittance | 92% |
Härte | Morse 6,5 |