Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
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Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
Material | fixiertes Silikon |
Arbeitstemperatur | 1100℃ |
Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
Produkt-Name | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | SIO2 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
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Material | SIO2>99.999% |
Dichte | 2,2 (g/cm3) |
Helle Beförderung | >92% |
Härte | Morse 6,5 |
Material | SIO2>99.999% |
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Dichte | 2,2 (g/cm3) |
Helle Beförderung | >92% |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Art | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitung des Services | Verbiegen, Schweißen, lochend, Ausschnitt |
Art | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitung des Services | Verbiegen, schweißend und lochen, Schnitt und polieren |
Art | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitung des Services | Verbiegen, schweißend und lochen, Schnitt und polieren |
Art | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitung des Services | Verbiegen, Schweißen, lochend, Ausschnitt |
Art | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitung des Services | Verbiegen, schweißend und lochen, Schnitt und polieren |
Typ | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitungsdienst | Verbiegen, schweißend und lochen, Schnitt und polieren |