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Hohe Reinheit 99,99% Quarzglasröhre Hitzebeständig geschmolzenes Siliziumrohr Runde Quarzröhre für Laboröfen Hersteller
Maßgeschneiderte hochtemperaturbeständige 99,99 % SiO₂-Quarzglasröhre für Öfen, Halbleitergeräte und Laborreaktoren. Verfügt über eine Arbeitstemperatur von 1100 °C, Korrosionsbeständigkeit und individuelle Verarbeitung. ISO9001-, CE- und RoHS-zertifiziert, kostenlose Muster verfügbar.
Hochtemperaturbeständig 1200°C Durchsichtig 99,99% Reinheit Quarzglasplatte Fusionssilikaglasplatte
Hochtemperaturbeständige Quarzplatte mit 1150 °C Arbeitstemperatur, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 99,99 % SiO2-Reinheit. Erhältlich in einer Dicke von 0,5–100 mm mit kundenspezifischen Fertigungsoptionen für Halbleiter-, Labor- und Ofenanwendungen.
Auf Wunsch hochreine 99,99% Quarzglasplatte hochtemperaturbeständig mit hoher Lichtdurchlässigkeit für Halbleiteroptik
Werksspezifische hochreine, 99,99 % transparente Quarzplatte mit >92 % Lichtdurchlässigkeit, JGS1/JGS2-Standards, Arbeitstemperatur bis zu 1150 °C, erhältlich in 0,5–100 mm Dicke. Kundenspezifische Fertigungsoptionen für Halbleiter- und optische Anwendungen mit starker Korrosionsbeständigkeit und elektrischer Isolierung.
Hohe Hitzebeständigkeit 99,99% Reinheit Maßgeschneiderte Größe Quarz Glasplatte Siliziumquarz Disc
Kundenspezifische Quarzglasplatten mit 99,99 % Reinheit, 1100 °C Arbeitstemperatur, 92 % Lichtdurchlässigkeit und Morsehärte 6,5. Erhältlich in verschiedenen Formen, Größen und Oberflächenbeschaffenheiten für Halbleiter-, optische und industrielle Anwendungen.
Hochtemperaturbeständig 1200°C Korrosionsbeständig Quarzbecher für Laborgeräte
Hochtemperaturbeständiger, 1200 ℃ korrosionsbeständiger, klarer Quarzbecher für Laborgeräte. Verfügt über einen SiO₂-Gehalt von 99,99 %, einen Schmelzpunkt von 1732 °C, eine Arbeitstemperatur von 1100 °C und eine Härte von 6,6. Ideal für Laborforschung, Halbleiterprozesse und universitäre Lehranwendungen.
Maßgeschneiderte Hochtransmissions-Quarzglasrohr mit 99,99% Reinheit, Quarzflanschrohr
Hochreines Quarzglasrohr mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, Arbeitstemperatur bis zu 1100 °C und Schmelzpunkt von 1732 °C. Verfügt über Korrosionsbeständigkeit, Transparenz und Flanschverbindungen für Halbleiter- und Hochtemperaturofenanwendungen. Kostenlose Muster verfügbar.
Quarzrohr mit hoher Lichtdurchlässigkeit mit hoher Temperaturbeständigkeit
Quarz-Reagenzglas mit hoher Lichtdurchlässigkeit und 99,99 % SiO₂-Gehalt, Arbeitstemperatur bis 1100 °C, Erweichungspunkt 1630 °C. Ideal für Halbleiter, Hochtemperaturöfen und Laborquarzreaktoren. Unterstützt kostenlose Muster und kundenspezifische Verarbeitung.
Großdurchmesser, Wärmebeständig, JGS2 geschmolzener Siliziumquarz-Ofen
Custom Heat Resistant Large Diameter Fused Silica Quartz Furnace Tube Custom Heat Resistant Fused Silica Large Quartz Furnace Pipe for Photovoltaic Applications Custom Large Diameter Heat Resistant Fused Silica Quartz Furnace Tube For Photovoltaic Product Overview Shengfan Quartz Glass Tube is a ...
