| Typ | Durchsichtige Quarzplatte |
|---|---|
| Anwendung | Halbleiter, optisch |
| Stärke | 0.5-100 mm |
| Form | Quadrat |
| Verarbeitungsdienst | Schlagen, Schneiden |
| Name | Quarzglasreaktor |
|---|---|
| Material | fixiertes Silikon |
| Arbeitstemperatur | 1100°C |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Härte | Morse 6,5 |
| Produktbezeichnung | Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | Sio2> 99,99% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Helles Transimittance | 92 Prozent |
| Härte | Morse 6,5 |
| Produktname | Quarzglasstab |
|---|---|
| Material | SiO2> 99,99% |
| Dichte | 2,2 g/cm3 |
| Helles Transimittance | 92% |
| Härte | Morse 6.5 |
| Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Schmelzpunkt | 1750-1850℃ |
| Produktname | Quarzglasrohr |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Od | 3-300mm |
| Helle Beförderung | >92% |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Produktname | Quarzglasrohr |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Od | 3-300mm |
| Helle Beförderung | >92% |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Quarz-Name | Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Helle Beförderung | 92% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Produktname | Quarz-Reagenzglas |
|---|---|
| Material | Fixierter Quarz |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Schmelzpunkt | 1750℃ |
| Quarz-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Helle Beförderung | 92% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |