| Name | High Temperature Quartz Glass Plate |
|---|---|
| Type | Clear Quartz Plate |
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Type | Durchsichtige Quarzplatte |
|---|---|
| Anwendung | Halbleiter, optisch |
| Stärke | 0.5-100 mm |
| Form | Quadrat |
| Verarbeitungsdienst | Schlagen, Schneiden |
| Type | Durchsichtige Quarzplatte |
|---|---|
| Anwendung | Halbleiter, optisch |
| Stärke | 0.5-100 mm |
| Form | Quadrat |
| Verarbeitungsdienst | Schlagen, Schneiden |
| Type | Durchsichtige Quarzplatte |
|---|---|
| Anwendung | Halbleiter, optisch |
| Stärke | 0.5-100 mm |
| Form | Quadrat |
| Verarbeitungsdienst | Schlagen, Schneiden |
| Produkt-Name | Präzisions-Glasbearbeitung |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Produktname | Präzisions-Glasbearbeitung |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Produktname | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Material | Fixierter Quarz |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Härte | Morse 6,5 |
| Verpackung Informationen | hölzerne Palette des Plastikblasenpolystyrenschaum-Blattkartons |
| Produktname | Laborreagensflasche |
|---|---|
| Material | SIO2>99.9% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik, 150mal als Edelstahl |
| Produktname | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Material | fixiertes Silikon |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Härte | Morse 6,5 |
| Produktname | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Material | fixiertes Silikon |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Härte | Morse 6,5 |