Typ | Durchsichtige Quarzplatte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100 mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitungsdienst | Schlagen, Schneiden |
Produktname | Quarzglasstab |
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Material | SIO2>99.99% |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Helles transimittance | 92% |
Härte | Morse 6,5 |
Produkt-Name | Quarzglasplatte |
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Material | 99,99% |
Helle Beförderung | 92% |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Arbeits-Temparature | 1100℃ |
Art | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitung des Services | Biegen, Schweißen, Stanzen, Polieren |
Produktbezeichnung | Quarzglasstab |
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Material | SIO2>99.99% |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Helles Transimittance | 92% |
Härte | Morse 6,5 |
Material | SIO2>99.99% |
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Dichte | 2.2g/cm3 |
Härte | Morse 6,5 |
Arbeits-Temparature | 1150℃ |
Schmelzpunkt | 1750-1850℃ |
Material | SIO2>99.99% |
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Dichte | 2.2g/cm3 |
Härte | Morse 6,5 |
Arbeits-Temparature | 1150℃ |
Schmelzpunkt | 1750-1850℃ |
Prodcut-Name | Quarz-Glasplatte |
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Helle Beförderung | >92% |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Arbeits-Temparature | 1100℃ |
Härte | Morse 6,5 |
Typ | Durchsichtige Quarzplatte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 0.5-100 mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitungsdienst | Schlagen, Schneiden |
Material | SIO2>99.99% |
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Od | 3-300mm |
Helle Beförderung | >92% |
Arbeits-Temparature | 1100℃ |
Härte | Morse 6,5 |