| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Od | 3-300mm |
| Helle Beförderung | >92% |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Härte | Morse 6,5 |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Od | 3-300mm |
| Helle Beförderung | >92% |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Härte | Mose 6,5 |
| Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | SIO2>99.999% |
| Helle Beförderung | >92% |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Name | Glasisolierung des Quarzes |
|---|---|
| Material | SIO2>99.999% |
| Helle Beförderung | >92% |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Produktname | Präzisions-Glasbearbeitung |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| UVbeförderung | 80% |
| Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
| Material | fixiertes Silikon |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
| Material | fixiertes Silikon |
| Arbeitstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Material | SIO2>99.99% |
|---|---|
| Dichte | 2,2 (g/cm3) |
| Helle Beförderung | >92% |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Produktname | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Arbeits-Temparature | 1200℃ |
| Schmelzpunkt | 1850℃ |
| Form | Quadrat/rundes/irgendeine Form |
