| Material | SiO2 |
|---|---|
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1200℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Dieletric-Stärke | 250~400Kv/cm |
| Produktbezeichnung | Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | Sio2> 99,99% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Helles Transimittance | 92 Prozent |
| Härte | Morse 6,5 |
| Produktbezeichnung | Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | Sio2> 99,99% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Helles Transimittance | 92 Prozent |
| Härte | Morse 6,5 |
| Produkt-Name | Lochende Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Produkt-Name | Fixierter Quarz-Platte |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Name | Quarzglasrohr |
|---|---|
| Anwendung | Quellen , Halbleiter |
| Material | SIO2 > 99,99 % |
| Eigenschaft | Gute elektrische Isolierung |
| Helle Beförderung | >92% |
| Produktname | Präzisions-Glasbearbeitung |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1200℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | SIO2>99.999% |
| Dichte | 2,2 (g/cm3) |
| Helle Beförderung | >92% |
| Härte | Morse 6,5 |
| Produktname | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Material | fixiertes Silikon |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |
| Härte | Morse 6,5 |
| Schlüsselwort | Wissenschafts-Laborglaswaren |
|---|---|
| Name | kundengebundenes Quarzinstrument des Prozesses Glaslabor |
| Material | fixiertes Silikon |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Saure Toleranz | 30mal als Keramik |