| Produktname | Quarz-Reagenzglas |
|---|---|
| Material | Fixierter Quarz |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Schmelzpunkt | 1750℃ |
| Name | XRD-QUARZ-PLATTE |
|---|---|
| Typ | Klare Quarz-Platte |
| Anwendung | Chemikalie |
| Dicke | 0.5-100mm |
| Form | Kreisform |
| Produktbezeichnung | Quarzglasstab |
|---|---|
| Material | SIO2>99.99% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Helles Transimittance | 92% |
| Härte | Morse 6,5 |
| Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Produktname | Präzisions-Glasbearbeitung |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
| Produkt-Name | Quarz-Glasplatte |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Helle Beförderung | 92% |
| Dichte | 2.2g/cm3 |
| Arbeits-Temparature | 1100℃ |
| Typ | Klare Quarzplatte |
|---|---|
| Anwendung | Halbleiter, optisch |
| Dicke | 0,5-100 mm |
| Form | Runden |
| Verarbeitungsdienst | Stanzen, Schneiden |
| Typ | Klare Quarzplatte |
|---|---|
| Anwendung | Halbleiter, optisch |
| Dicke | 0,5-100 mm |
| Form | Runden |
| Verarbeitungsdienst | Stanzen, Schneiden |
| Produktname | Quarzglasplatte |
|---|---|
| Material | SiO2> 99,99% |
| Dichte | 2,2 g/cm3 |
| Helles Transimittance | 92% |
| Härte | Morse 6.5 |
| Produktname | Präzisions-Glasbearbeitung |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Härte | Morse 6,5 |
| Betriebstemperatur | 1100℃ |
| Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |