Typ | Klares Quarzrohr |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Stärke | 1 bis 100 mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitungsdienst | Schlagen, Schneiden |
Name | Hochtemperatur-Quarzglasplatte |
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Typ | Klare Quarzplatte |
Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0,5-100mm |
Form | Quadrat |
Name | Hochtemperatur-Quarzglasplatte |
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Typ | Klare Quarzplatte |
Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0,5-100mm |
Form | Quadrat |
Typ | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitungsdienst | Verbiegen, schweißend und lochen, Schnitt und polieren |
Typ | Klare Quarz-Platte |
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Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0.5-100mm |
Form | Quadrat |
Verarbeitungsdienst | Verbiegen, schweißend und lochen, Schnitt und polieren |
Name | Hochtemperatur-Quarzglasplatte |
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Typ | Klare Quarzplatte |
Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0,5-100mm |
Form | Quadrat |
Produkt-Name | Laborreagensflasche |
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Material | SIO2>99.9% |
Dichte | 2.2g/cm3 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Saure Toleranz | 30mal als Keramik, 150mal als Edelstahl |
Name | Hochtemperatur-Quarzglasplatte |
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Typ | Klare Quarzplatte |
Anwendung | Halbleiter, optisch |
Dicke | 0,5-100mm |
Form | Quadrat |
Produkt-Name | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | SiO2 |
Härte | Morse 6,5 |
Betriebstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |
Produktname | Präzisions-Glasbearbeitung |
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Material | SiO2 |
Härte | Morse 6,5 |
Arbeitstemperatur | 1100℃ |
Oberflächenbeschaffenheit | 20/40 oder 40/60 |