"flat bottom test tubes"
UV-transparente, hochtemperaturbeständige Quarzglasplatte für Halbleitergeräte
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Hochtemperatur-beständige kundenspezifische Verarbeitung Quarzglasplatte aus geschmolzenem Siliziumdioxid mit hoher Lichtdurchlässigkeit
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Fabrikdirekt 1150℃ hitzebeständige Quarzglasplatte mit >92% Lichtdurchlässigkeit und kundenspezifischer Größe 0,5-100 mm
Direkt ab Werk polierte Quarzplatten mit 99,99 % SiO2-Reinheit, 1150 °C Arbeitstemperatur, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 0,5–100 mm Dicke. Kundenspezifische Größen gemäß JGS-Standards erhältlich, ideal für Halbleiter-, Optik- und Industrieanwendungen, die eine hohe Hitzebeständigkeit und Haltbarkeit erfordern.
Hochtemperaturbeständig 1200°C Durchsichtig 99,99% Reinheit Quarzglasplatte Fusionssilikaglasplatte
Hochtemperaturbeständige Quarzplatte mit 1150 °C Arbeitstemperatur, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 99,99 % SiO2-Reinheit. Erhältlich in einer Dicke von 0,5–100 mm mit kundenspezifischen Fertigungsoptionen für Halbleiter-, Labor- und Ofenanwendungen.
Auf Wunsch hochreine 99,99% Quarzglasplatte hochtemperaturbeständig mit hoher Lichtdurchlässigkeit für Halbleiteroptik
Werksspezifische hochreine, 99,99 % transparente Quarzplatte mit >92 % Lichtdurchlässigkeit, JGS1/JGS2-Standards, Arbeitstemperatur bis zu 1150 °C, erhältlich in 0,5–100 mm Dicke. Kundenspezifische Fertigungsoptionen für Halbleiter- und optische Anwendungen mit starker Korrosionsbeständigkeit und elektrischer Isolierung.
Wärmebeständige Quarzglasplatte 1200C mit > 92% Lichtdurchlässigkeit und 99,99% SiO2-Reinheit für Solaröfen
Hitzebeständige Quarzglasplatten mit 1150 °C Arbeitstemperatur, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 99,99 % SiO2-Reinheit. Erhältlich in 0,5–100 mm Dicke mit JGS1/JGS2/JGS3-Standards. Kundenspezifische Fertigungsmöglichkeiten für Solaröfen, Labore und Industrieanwendungen.
Auf Wunsch hochreine 99,99% SiO2 Quarzglasplatte Hitzebeständig 1150°C mit hoher Lichtdurchlässigkeit >92% für Labor Halbleiter
Kundenspezifische runde Quarzglasscheiben mit 99,99 % SiO2-Reinheit, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 1150 °C Arbeitstemperatur. Erhältlich mit einem Durchmesser von 1–800 mm und einer Dicke von 0,2–100 mm. Hitzebeständig, korrosionsbeständig und anpassbar für Halbleiter-, Labor- und Industrieanwendungen.
