Kundenspezifische Quarzglasscheiben mit 99,99 % SiO2-Reinheit, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 1150 °C Arbeitstemperatur. Erhältlich in einer Dicke von 0,5–100 mm mit vollständiger Anpassung einschließlich Schneiden, Biegen und Schweißen für optische Anwendungen.
Kundenspezifisches Quarzglas-Spiralrohr mit SIO2>99,99 % Reinheit, Arbeitstemperatur bis zu 1100 °C, >92 % Lichtdurchlässigkeit und ozonfrei für den Laborgebrauch. Verfügt über eine hervorragende Thermoschockstabilität, Säure-/Laugenbeständigkeit und keine Luftblasen.
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
Maßgeschneiderte hochtemperaturbeständige 99,99 % SiO₂-Quarzglasröhre für Öfen, Halbleitergeräte und Laborreaktoren. Verfügt über eine Arbeitstemperatur von 1100 °C, Korrosionsbeständigkeit und individuelle Verarbeitung. ISO9001-, CE- und RoHS-zertifiziert, kostenlose Muster verfügbar.
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Optical Fused Silica Sheet High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan Quartz. Technical ...
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
Hot Sale UV High Transmittance Anti-Corrosion Clear Flat Quartz Glass Plate Product Characteristics Brand shengfanquartz SIO2 99.99% Density 2.2 (g/cm³) Degree of hardness moh' scale 6.6 Melting point 1732℃ Working temperature 1100℃ Annealing point 1180℃ Softening point 1630℃ Specification ...
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
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