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Wärmebeständige Quarzglasplatte 1200C mit > 92% Lichtdurchlässigkeit und 99,99% SiO2-Reinheit für Solaröfen
Hitzebeständige Quarzglasplatten mit 1150 °C Arbeitstemperatur, >92 % Lichtdurchlässigkeit und 99,99 % SiO2-Reinheit. Erhältlich in 0,5–100 mm Dicke mit JGS1/JGS2/JGS3-Standards. Kundenspezifische Fertigungsmöglichkeiten für Solaröfen, Labore und Industrieanwendungen.
Längen-Durchmesser, Wärmeschlagfestigkeit von 1200 Grad JGS2 Quarzrohr, geschmolzenes Siliziumrohr mit SiO2>99,99% Reinheit
Kundenspezifische Quarzrohre mit 99,99 % SiO2-Reinheit halten einem Temperaturschock von 1200 °C stand. Verfügt über einen Erweichungspunkt von 1730 °C, eine ausgezeichnete Säurebeständigkeit und CE/RoHS/SGS-Zertifizierungen. Erhältlich in kundenspezifischen Größen für chemische Anwendungen.
CNC-Verfahren Quarzglasplatte mit hoher Widerstandsfähigkeit Quarzplatte
Klare Quarzglasplatte im CNC-Verfahren mit hoher Temperaturbeständigkeit (1100 °C Arbeitstemperatur), 99,99 % SiO₂-Reinheit, Morsehärte 6,5 und über 92 % Lichtdurchlässigkeit. Kundenspezifische Formen, Dicken (0,5–100 mm) und Spezifikationen sind mit den Materialoptionen JGS1/JGS2/JGS3 verfügbar.
hochtemperaturbeständige JGS1 JGS2 JGS3 klare geschmolzene Siliziumquarzglaswafer für die Halbleiterherstellung
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
Professionelle kundenspezifische korrosionsbeständige transparente Quarzflasche für das Labor
Professionelle, maßgeschneiderte Quarzflasche mit 99,99 % SiO₂-Reinheit, hält einer Arbeitstemperatur von 1100 °C und einem Schmelzpunkt von 1732 °C stand. Ideal für Laborforschung, Halbleiterprozesse und universitäre Lehranwendungen.
Hochreines Quarzglasrohr aus geschmolzenem Quarz, hochtemperaturbeständig bis 1100°C, kundenspezifische Größe 1mm-1000mm für das Labor
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Hochwertige hitzebeständige transparente rechteckige Quarzglasplatte mit Löchern für Halbleiter
Hochtemperaturbeständige transparente Quarzglasplatte mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, 1732℃ Schmelzpunkt, 1100℃ Arbeitstemperatur. Kundenspezifische Stanz-/Schneidbearbeitung, kostenlose Muster verfügbar. Ideal für Halbleiteranwendungen.
Hochpräzise Quarz-Schraubgewinderöhre mit hoher Dichtleistung, Quarzglasflasche für das Labor
Hochpräzises Quarz-Schraubgewinderohr mit 99,99 % SiO₂-Gehalt, Arbeitstemperatur bis 1100℃, Schmelzpunkt 1732℃. Hochtemperaturbeständig, korrosionsbeständig, ideal für Laborforschung, Halbleiter und universitäre Lehranwendungen.
